ESegNet-ILT: An end-to-end mask optimization method in VLSI design flow based on enhanced SegNet

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标题	ESegNet-ILT: An end-to-end mask optimization method in VLSI design flow based on enhanced SegNet ESegNet-ILT：一种基于增强型SegNet的VLSI设计流程端到端掩码优化方法
网址	https://doi.org/10.1016/j.vlsi.2025.102512
DOI	10.1016/j.vlsi.2025.102512 doi
其它	期刊：Integration 作者：Hui Xu; Yong Xue; Yu Zhang; Xia Sun; Jiale Li; et al 出版日期：2025
求助人	勤劳怜寒在 2025-08-21 17:11:01 发布自四川，悬赏 10 积分
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