| 标题 |
Non-contact, in-line monitoring of low dose and low energy ion implantation 低剂量低能量离子注入的非接触在线监测
相关领域
离子注入
薄脆饼
材料科学
接触电阻
硼
CMOS芯片
光电子学
低能
电子工程
离子
纳米技术
工程类
物理
原子物理学
图层(电子)
量子力学
核物理学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:2000 International Conference on Ion Implantation Technology Proceedings. Ion Implantation Technology - 2000 (Cat. No.00EX432) 作者:R. Santiesteban; Damon K. DeBusk; Deepak A. Ramappa; W. Möller 出版日期:2003-07-10 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)