Enhancement of Selectivity for Chemical Mechanical Polishing by Ultra-High-Dose C and Si Ion Implantation

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标题	Enhancement of Selectivity for Chemical Mechanical Polishing by Ultra-High-Dose C and Si Ion Implantation 超高剂量碳硅离子注入提高化学机械抛光选择性相关领域抛光选择性化学机械平面化材料科学离子离子注入光电子学复合材料分析化学（期刊）化学色谱法生物化学催化作用有机化学
网址	https://ieeexplore.ieee.org/ielx7/6245494/6423298/10454590.p...
DOI	10.1109/jeds.2024.3371455 doi
其它	期刊：IEEE Journal of the Electron Devices Society 作者：Shihao Yuan; K. Omori; Tadashi Yamaguchi; Takashi Ide; Seiji Muranaka; et al 出版日期：2024-01-01
求助人	皮雁子在 2024-03-28 16:33:03 发布自陕西，悬赏 10 积分
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