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Enhancement of Selectivity for Chemical Mechanical Polishing by Ultra-High-Dose C and Si Ion Implantation

抛光 选择性 化学机械平面化 材料科学 离子 离子注入 光电子学 复合材料 分析化学（期刊） 化学 生物化学 有机化学 色谱法 催化作用
作者
Shihao Yuan,K. Omori,Tadashi Yamaguchi,Takashi Ide,Seiji Muranaka,Masashi Inoue
出处
期刊：IEEE Journal of the Electron Devices Society [Institute of Electrical and Electronics Engineers]
日期：2024-01-01 卷期号：: 1-1
链接
ieee.org ieee.orgdoi.org
标识
DOI：10.1109/jeds.2024.3371455
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