Low temperature plasma enhanced atomic layer deposition of conducting zirconium nitride films using tetrakis (dimethylamido) zirconium and forming gas (5% H2 + 95% N2) plasma

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标题	Low temperature plasma enhanced atomic layer deposition of conducting zirconium nitride films using tetrakis (dimethylamido) zirconium and forming gas (5% H2 + 95% N2) plasma
网址	https://doi.org/10.1116/1.4915122
DOI	10.1116/1.4915122 doi
其它	期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Triratna Muneshwar; Ken Cadien 出版日期：2015-03-17
求助人	半岛铁盒在 2026-08-31 17:12:22 发布自法国，悬赏 10 积分
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