Use of an auxiliary electrode to control plasma properties at the wafer edge in inductively coupled plasmas with a substrate bias

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标题	Use of an auxiliary electrode to control plasma properties at the wafer edge in inductively coupled plasmas with a substrate bias
网址	https://pubs.aip.org/avs/jva/article-abstract/43/6/063001/33...
DOI	10.1116/6.0004847 doi
求助人	future 在 2026-08-21 14:57:29 发布自美国，悬赏 10 积分
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