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High resistive switching on/off ratio in Lu doped Hf0.4Zr0.6O2 thin films through band structure and vacancy co-strategy
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DOI
10.1007/s40843-026-4235-6 doi
其它 期刊:Science China Materials
作者:Jiaqi Li; Qiang Li; Hongwei Wang; Xiaoxia Yu; Jie Tu; et al
出版日期:2026-08-06
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XUAN 在 2026-09-05 16:15:26 发布自北京,悬赏 20 积分
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