| 标题 |
 Optical considerations of EUVL wavelength, NA, and multilayers at large angles 相关领域
极紫外光刻
光学
材料科学
平版印刷术
抵抗
波长
极化（电化学）
电子束光刻
光学涂层
光刻
光电子学
涂层
下一代光刻
相（物质）
严格耦合波分析
X射线光刻
传递矩阵
振幅
基点
浸没式光刻
干涉光刻
反射率
光学接近校正
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| 网址 | |
| DOI |
10.1117/1.jmm.25.2.021204
doi
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| 其它 |
期刊：Journal of Micro/Nanopatterning, Materials, and Metrology 作者：Bruce W. Smith 出版日期：2026-03-05 |
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