| 标题 |
Preparation and optoelectronic properties of a‐IGZO thin films deposited by RF magnetron sputtering at different working pressures 不同工作压力下射频磁控溅射沉积a-IGZO薄膜的制备及光电性能
相关领域
材料科学
退火(玻璃)
透射率
溅射沉积
光电子学
溅射
电阻率和电导率
半导体
薄膜
吸收边
电子迁移率
复合材料
纳米技术
带隙
电气工程
工程类
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Rare Metals 作者:Ruixin Ma; Yuqin Xiao; Shina Li; Yuanyuan Wang; Dong-ran Li; et al 出版日期:2014-06-17 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成,仅限求助人下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|