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 Microstructural evolution and plasma etching resistance of Y2O3-YAM composite layers sinter-bonded on Al2O3 substrate for semiconductor processing equipment 相关领域
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期刊：Ceramics International 作者：Haeseong Cho; Seong‐Hyeon Kim; Ha-Neul Kim; Mi‐Ju Kim; Jae‐Woong Ko; et al 出版日期：2025-06-11 |
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(2025-6-4)
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