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Exploring oxide-nitride-oxide scalloping behavior with small gap structure and chemical analysis after fluorocarbon or hydrofluorocarbon plasma processing
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DOI
10.1116/6.0002868 doi
其它 期刊:Journal of Vacuum Science & Technology B
作者:Sang-Jin Chung; Pingshan Luan; Minjoon Park; Andrew Metz; Gottlieb S. Oehrlein
出版日期:2023-09-25
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的萨芬都是 在 2026-03-03 10:10:37 发布自湖北,悬赏 10 积分
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