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标题
Modeling of defect generation during plasma etching and its impact on electronic device performance—plasma-induced damage
等离子体刻蚀过程中缺陷产生的建模及其对电子器件性能的影响——等离子体诱导损伤
相关领域
等离子体 等离子体刻蚀 蚀刻（微加工） 材料科学 反应离子刻蚀 光电子学 纳米技术 物理 图层（电子） 核物理学
网址
https://doi.org/10.1088/1361-6463/aa7523
DOI
10.1088/1361-6463/aa7523 doi
其它 期刊：Journal of Physics D
作者：Koji Eriguchi
出版日期：2017-07-20
求助人
Zex 在 2025-05-06 22:29:13 发布自北京，悬赏 10 积分
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