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Growth Characteristics of Atomic Layer Deposited TiO[sub 2] Thin Films on Ru and Si Electrodes for Memory Capacitor Applications |
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期刊:Journal of The Electrochemical Society 作者:Wan Don Kim; Gyu Weon Hwang; Oh Seong Kwon; Seong Keun Kim; Moonju Cho; et al 出版日期:2005-08-12 |
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