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 Maskless lithography based on oblique scanning of point array with digital distortion correction 基于点阵斜扫描和数字失真修正的无掩模曝光
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期刊：Optics and Lasers in Engineering 作者：Hung-Laing Chien; Yi-Hsien Chiu; Yung-Chun Lee 出版日期：2020-08-01 |
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