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 Analysis of HfO2 Charge Trapping Layer Characteristics After UV Treatment 紫外光处理后HfO2电荷俘获层特性分析
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期刊：ECS Journal of Solid State Science and Technology 作者：Jaemin Kim; Jaeun Kim; Eun‐Chel Cho; Junsin Yi 出版日期：2021-03-29 |
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烂漫的灵寒
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