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In situ MOCVD growth and band offsets of Al2O3 dielectric on β-Ga2O3 and β-(AlxGa1−x)2O3 thin films β-Ga2O3和β-(AlxGa1-x)2O3薄膜上Al2O3介质的原位MOCVD生长和带偏置
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期刊:Journal of Applied Physics 作者:Alauddin Bhuiyan; Lingyu Meng; Hsien‐Lien Huang; Jinwoo Hwang; Hongping Zhao 出版日期:2022-10-24 |
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