| 标题 |
Sensitivity of Al-Doped Zinc-Oxide Extended Gate Field Effect Transistors to Low-Dose X-ray Radiation 掺Al氧化锌扩展栅场效应晶体管对低剂量X射线辐射的敏感性
相关领域
材料科学
结晶度
辐照
光电子学
阈值电压
分析化学(期刊)
兴奋剂
扫描电子显微镜
薄膜
基质(水族馆)
偏压
辐射
晶体管
电压
光学
纳米技术
复合材料
化学
电气工程
物理
地质学
工程类
核物理学
海洋学
色谱法
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Materials 作者:Amal Mohamed Ahmed Ali; Naser M. Ahmed; Norlaili A. Kabir; Ahmad M. AL-Diabat; Natheer A. Algadri; et al 出版日期:2023-02-24 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)