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Defect reactivation and structural relaxation in deposited amorphous SiO2
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网址
https://doi.org/10.1063/1.349250
DOI
10.1063/1.349250 doi
其它 期刊：Journal of Applied Physics
作者：R. A. B. Devine
出版日期：1991-10-01
求助人
hhh 在 2025-11-12 16:40:59 发布自湖北，悬赏 10 积分
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