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Advanced characterization of IBAD deposited MgF2, Al2O3, Si, YF3, and Ge thin films in ultra-broadband spectral region of 300-5000 nm
IBAD沉积MgF2、Al2O3、Si、YF3和Ge薄膜在300-5000 nm超宽带光谱区的高级表征
相关领域
材料科学 表征（材料科学） 光电子学 宽带 光学 纳米技术 物理
网址
https://doi.org/10.1117/12.3023027
DOI
10.1117/12.3023027 doi
其它 期刊：
作者：T. V. Amochkina; Veranika Shandarovich; Daniel Kisela; Michael K. Trubetskov; А. С. Мысливец
出版日期：2024-06-17
求助人
一只鱼 在 2025-08-28 22:48:56 发布，悬赏 20 积分
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