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Si nanocone structure fabricated by a relatively high-pressure hydrogen plasma in the range of 3.3–27 kPa
用3.3~27 kPa的相对高压氢等离子体制备硅纳米锥结构
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DOI
10.1116/6.0001676 doi
其它 期刊:Journal of Vacuum Science & Technology B Nanotechnology and Microelectronics Materials Processing Measurement and Phenomena
作者:Toshimitsu Nomura; Kenta Kimoto; Hiroaki Kakiuchi; Kiyoshi Yasutake; Hiromasa Ohmi
出版日期:2022-04-22
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