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 Modeling of microcrystalline silicon film deposition in a capacitively coupled radio-frequency plasma reactor 电容耦合射频等离子体反应器中微晶硅薄膜沉积的模拟
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期刊：Journal of Applied Physics 作者：Koji Satake; Yasuyuki Kobayashi 出版日期：2004-12-27 |
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