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 Ultrafast laser-induced oxidation of silicon: A new approach towards high quality, low-temperature, patterned SiO2 formation 超快激光诱导氧化硅：一种高质量、低温、图案化SiO2的新方法
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期刊：Applied Physics Letters 作者：T. E. Orlowski; H. Richter 出版日期：1984-08-01 |
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