| 标题 |
Spin-on trilayer scheme: enabling materials for extension of ArF immersion lithography to 32nm node and beyond |
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| DOI |
10.1117/12.804748
doi
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| 其它 |
期刊:Proceedings of SPIE 作者:Ruzhi Zhang; Allen G. Timko; Lyudmila Pylneva; Jennifer A. Loch; Hengpeng Wu; et al 出版日期:2008-11-20 |
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(2025-6-4)