| 标题 |
Wafer level response to mask deficiencies in 0.55-numerical aperture extreme ultraviolet photolithography |
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| DOI |
10.1117/1.jmm.21.4.044401
doi
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期刊:Journal of micro/nanopatterning, materials, and metrology 作者:Lawrence S. Melvin; R. Jonckheere 出版日期:2022-10-14 |
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(2025-6-4)