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 Mechanism of polishing of SiO2 films by CeO2 particles CeO2粒子抛光SiO2薄膜的机理
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期刊：Journal of Non-Crystalline Solids 作者：Tetsuya Hoshino; Y. Kurata; Yuuki Terasaki; K. Susa 出版日期：2001-05-01 |
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