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A high-power impulse magnetron sputtering global model for argon plasma–chromium target interactions
相关领域
高功率脉冲磁控溅射 电离 原子物理学 等离子体 氪 氩 溅射沉积 溅射 材料科学 化学 离子 物理 薄膜 量子力学 纳米技术 有机化学
网址
https://doi.org/10.1116/6.0000865
AI链接 archives-ouvertes.fr hal.sciencedoi.org
DOI
10.1116/6.0000865 doi
其它 期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films
作者：J. Zgheib; Pierre-Yves Jouan; A. Rhallabi
出版日期：2021-06-10
求助人
wy 在 2025-10-28 12:28:30 发布自海南，悬赏 10 积分
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