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Fabrication of High-Gain CMOS Inverter Based on Ambipolar WSe2 Negative-Capacitance FETs With Ferroelectric HfZrAlO as Gate Dielectric 以铁电HfZrAlO为栅介质的双极WSe2负电容场效应晶体管高增益CMOS逆变器的研制
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铁电性
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制作
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期刊:IEEE Transactions on Electron Devices 作者:Xinge Tao; Weichao Jiang; Lu Liu; Jing-Ping Xu 出版日期:2024-02-08 |
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