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Effects of high-temperature annealing on electrical properties of Si-doped β -Ga2O3 thin films grown by low-pressure hot-wall MOCVD
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备注
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网址
DOI
10.1063/5.0292471 doi
其它 期刊:Applied Physics Letters
作者:Jun Jason Morihara; M. Y. Bando; Junya Yoshinaga; Yoshinao Kumagai; Masataka Higashiwaki
出版日期:2025-10-06
求助人
坚强的靖柔 在 2025-10-09 12:15:24 发布自河南,悬赏 20 积分
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