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In-situ Microwave Characterization of Medium-k HfO2 and High-k STO Dielectrics for MIM Capacitors Integrated in Back-End of Line of IC
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原位
电容器
材料科学
生产线后端
微波食品加热
电介质
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表征（材料科学）
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电气工程
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工程类
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有机化学
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期刊：HAL (Le Centre pour la Communication Scientifique Directe) 作者：Trinh Vo; T. Lacrevaz; B. Fléchet; A. Farcy; Y. Morand; et al 出版日期：2008-12-01 |
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