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 In Situ Reaction Mechanism Study on Atomic Layer Deposition of Intermetallic Co3Sn2 Thin Films 原子层沉积金属间化合物Co3Sn2薄膜的原位反应机理研究
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期刊：Chemistry of Materials 作者：Heta-Elisa Nieminen; Mikko Kaipio; Mikko Ritala 出版日期：2020-09-14 |
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