| 标题 |
Deposition of uniform films on complex 3D objects by atomic layer deposition for plasma etch resistant coatings 相关领域
迷惑
沉积(地质)
图层(电子)
材料科学
原子层沉积
蚀刻(微加工)
等离子体
等离子体刻蚀
边界层
化学工程
腐蚀
纳米技术
复合材料
分析化学(期刊)
化学
色谱法
物理
机械
量子力学
生物
沉积物
工程类
古生物学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:National Science Review 作者:Xin Li Han; Yixian Wang; Ye Tian; Yafeng Wang; Lipei Peng; et al 出版日期:2025-06-17 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|