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 Dipole formation to modulate flatband voltage using ALD Al2O3 and La2O3 at the interface between HfO2 and Si or Ge substrates ALD Al2O3和La2O3在HfO2与Si或Ge衬底界面形成偶极子调制平带电压
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期刊：Applied Surface Science 作者：Yuanju Zhang; Moonjung Choi; Zeli Wang; Changhwan Choi 出版日期：2023-01-01 |
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