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 Methods of producing plasma enhanced chemical vapor deposition silicon nitride thin films with high compressive and tensile stress 等离子体增强化学气相沉积高压拉应力氮化硅薄膜的制备方法
相关领域
材料科学
等离子体增强化学气相沉积
薄膜
X射线反射率
化学气相沉积
极限抗拉强度
硅
复合材料
分析化学（期刊）
光电子学
纳米技术
化学
色谱法
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期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：M. Belyansky; Milton A. Chace; Oleg Gaidai; J.J. Kempisty; N. Klymko; et al 出版日期：2008-04-29 |
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