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 A model for spectroscopic ellipsometry analysis of plasma-activated Si surfaces for direct wafer bonding 用于直接晶片键合的等离子体激活硅表面的椭偏光谱分析模型
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期刊：Applied Physics Letters 作者：N. Rauch; E. Andersen; Ignacio Gabriel Vicente-Gabás; Jiri Duchoslav; Alexey Minenkov; et al 出版日期：2022-08-22 |
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平常的凛
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