标题 |
Effects of fluorine plasma pre-treatment on electrical properties of high-κ-based InP metal-oxide-semiconductor device
氟等离子体预处理对高κ基InP金属氧化物半导体器件电学性能的影响
相关领域
材料科学
等离子体
氧化物
氟
半导体
金属
电容器
光电子学
分析化学(期刊)
化学
电气工程
电压
冶金
物理
工程类
量子力学
色谱法
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网址 | |
DOI |
10.1016/j.apsusc.2022.152688
doi
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其它 |
期刊:Applied Surface Science 作者:Qian Xu; Weidong Liu; Yao-Xin Ding; Zhi-Wei Zheng; Leiying Ying; et al 出版日期:2022-05-01 |
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