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Study of the electronic transport performance of ZnO-SiO2 film: the construction of grain boundary barrier ZnO-SiO2薄膜电子输运性能的研究:颗粒边界屏障的构建
相关领域
材料科学
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锌
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期刊:Microelectronics International 作者:Yidong Zhang 出版日期:2024-07-09 |
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