Application of intra-field alignment to reduce wafer-to-wafer variation

已完结

文献求助详情

标题	Application of intra-field alignment to reduce wafer-to-wafer variation
网址	http://dx.doi.org/10.1117/12.2552735
DOI	10.1117/12.2552735 doi
其它	期刊：Optical Microlithography XXXIII 作者：Jang-Sun Kim; Seonho Lee; Hyeon-Jun Ha; Boris Habets; Enrico Bellmann; et al 出版日期：2020-03-23
求助人	Whyx97 在 2026-08-07 14:47:00 发布自福建，悬赏 20 积分
下载	该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。

上个求助

下个求助

提交工单

该求助已完结，感谢关注

如需该文献，请重新发布求助，前往发布

有了科研通，下载文献真轻松！

请遵守相关知识产权规定，勿将文件分享给他人，仅可用于个人研究学习

我的文献求助列表浏览历史

一分钟了解求助规则 | 捐赠本站 | 历史今天

更新

⚡ 2026年影响因子、分区 已更新！ (2026-6-17)

更新

📰 新增『新锐期刊分区』 (2026-3-24)

更新

💬 新增更精细的自定义提醒设置 (2026-1-4)

新增

🕒 每天60秒读懂世界·精选全球要闻 (2026-1-2)

新增

PDF的下载单位、IP信息已删除 (2025-6-4)

科研通是完全免费的文献互助平台，具备全网最快的应助速度，最高的求助完成率。对每一个文献求助，科研通都将尽心尽力，给求助人一个满意的交代。

实时播报: CRUSADER上传了应助文件

1秒前; bwx完成签到，获得积分10

2秒前; cdercder上传了应助文件

7秒前; cdercder上传了应助文件

8秒前; LI完成签到，获得积分10

9秒前; 990724完成签到，获得积分10

9秒前; 单纯的忆安完成签到，获得积分10

22秒前; 灯火阑珊完成签到，获得积分10

23秒前; 科研通AI6.2的应助被LI采纳，获得10

24秒前; 阿甘完成签到，获得积分10

29秒前; 深情安青的应助被时尚丹寒采纳，获得10

29秒前; 在水一方完成签到，获得积分0

31秒前; 潘佳琪完成签到，获得积分10

39秒前; 今后的应助被勤奋日光采纳，获得10

42秒前; 大模型的应助被haobaba233采纳，获得10

47秒前; 小鱼崽完成签到，获得积分10

48秒前; 学医没出路完成签到，获得积分10

50秒前; 英俊的铭的应助被任伟超采纳，获得10

50秒前; 无奈的书琴完成签到，获得积分10

51秒前; 科研通AI6.2上传了应助文件

53秒前; luckweb完成签到，获得积分10

53秒前; 今后上传了应助文件

55秒前; mochalv123发布了新的文献求助10

57秒前; 大模型上传了应助文件

58秒前; 天天快乐上传了应助文件

59秒前; 勤奋日光发布了新的文献求助10

1分钟前; 萤火虫完成签到，获得积分10

1分钟前; haobaba233发布了新的文献求助10

1分钟前; 领导范儿的应助被武雨寒采纳，获得10

1分钟前; lsl完成签到，获得积分10

1分钟前; cdercder上传了应助文件

1分钟前; 大脸猫4811发布了新的文献求助10

1分钟前; DR.秋完成签到，获得积分10

1分钟前; 萤火虫发布了新的文献求助10

1分钟前; 英俊的铭上传了应助文件

1分钟前; cdercder上传了应助文件

1分钟前; 任伟超发布了新的文献求助10

1分钟前; 背后寒烟完成签到，获得积分10

1分钟前; Jasper的应助被001采纳，获得10

1分钟前; 大模型的应助被武雨寒采纳，获得10

1分钟前