标题 |
![]() 电场应力下AlOx和SiNx钝化纳米层的硅界面特性
相关领域
钝化
材料科学
电场
接口(物质)
硅
压力(语言学)
光电子学
氮化硅
工程物理
复合材料
图层(电子)
工程类
物理
毛细管作用
哲学
量子力学
语言学
毛细管数
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊: 作者:Xinya Niu; Shona McNab; Ruy S. Bonilla 出版日期:2025-05-02 |
求助人 | |
下载 | |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|