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标题
Low-stress and high-reflectance Mo/Si multilayers for extreme ultraviolet lithography by magnetron sputtering deposition with bias assistance
偏压辅助磁控溅射沉积极紫外光刻用低应力高反射率Mo/Si多层膜
相关领域
极紫外光刻 材料科学 偏压 溅射沉积 极端紫外线 X射线反射率 溅射 压力（语言学） 光学 光电子学 薄膜 电压 纳米技术 电气工程 物理 工程类 哲学 语言学 激光器
网址
https://doi.org/10.1364/ao.56.007462
AI链接 nih.govdoi.org
DOI
10.1364/ao.56.007462 doi
其它 期刊：Applied Optics
作者：Bo Yu; Chunshui Jin; Shun Yao; Chun Li; Yu Liu; et al
出版日期：2017-09-08
求助人
winterm 在 2025-07-02 10:40:46 发布自江苏，悬赏 10 积分
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