Low-stress and high-reflectance Mo/Si multilayers for extreme ultraviolet lithography by magnetron sputtering deposition with bias assistance

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标题	Low-stress and high-reflectance Mo/Si multilayers for extreme ultraviolet lithography by magnetron sputtering deposition with bias assistance 偏压辅助磁控溅射沉积极紫外光刻用低应力高反射率Mo/Si多层膜相关领域极紫外光刻材料科学偏压溅射沉积极端紫外线 X射线反射率溅射压力（语言学）光学光电子学薄膜电压纳米技术电气工程物理激光器语言学哲学工程类
网址	https://doi.org/10.1364/ao.56.007462
DOI	10.1364/ao.56.007462 doi
其它	期刊：Applied Optics 作者：Bo Yu; Chunshui Jin; Shun Yao; Chun Li; Yu Liu; et al 出版日期：2017-09-08
求助人	winterm 在 2025-07-02 10:40:46 发布自江苏，悬赏 10 积分
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