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Line edge roughness characterization of sub-50nm structures using CD-SAXS: round-robin benchmark results
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DOI
10.1117/12.725380 doi
其它 期刊:SPIE Proceedings
作者:Chengqing Wang; Ronald L. Jones; Eric K. Lin; Wen-li Wu; John S. Villarrubia; et al
出版日期:2007-05-12
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卫子善 在 2026-05-27 22:54:23 发布自北京,悬赏 20 积分
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