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CD versus pitch across the slit for multiple 248-nm step-and-scan exposure tools 多个248nm步进扫描曝光工具的CD与狭缝间距
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期刊:Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者:Jo Finders; Robert de Kruif; Richard Bruls; Igor Bouchoms 出版日期:2002-07-15 |
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