| 标题 |
 Mo/Si multilayers for EUV lithography by ion beam sputter deposition 用于EUV光刻的离子束溅射沉积Mo/Si多层膜
相关领域
极紫外光刻
材料科学
反射计
X射线光电子能谱
X射线反射率
极端紫外线
光学
透射电子显微镜
光电子学
分析化学（期刊）
薄膜
化学
纳米技术
核磁共振
物理
色谱法
计算机科学
计算机视觉
时域
激光器
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Vacuum 作者：Thomas Chassé; H. Neumann; B. Ocker; Maik R. J. Scherer; W. Frank; et al 出版日期：2003-04-24 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
Kao
嘻嘻哈哈
Copyright
OK
lili
迷人的天抒
学术文献互助
不潮薯饼
竹青
路豐遙
GingerF
Raftaar
Criminology34
haijun
LL
星野
Nole
清平道人
MchemG
skearthy
皖公网安备34019202002308
