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 Study on Tunnel Oxide Degradation by Metal Pad Etch-InducedPlasma Damage in 0.04 $mu$m Flash Memory Technology 相关领域
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期刊：Journal of the Korean Physical Society 作者：Ilsub Chung; Jeongyun Lee; Wanjae Park; Haksun Lee; Tokasiki Ken; et al 出版日期：2009 |
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