| 标题 |
Angular dependences of SiO2 etch rates at different bias voltages in CF4, C2F6, and C4F8 plasmas |
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Thin Solid Films 作者:Jun-Hyun Kim; Sung-Woon Cho; Chang Jin Park; Heeyeop Chae; Chang-Koo Kim 出版日期:2017-03-24 |
| 求助人 | |
| 下载 |
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)