| 标题 |
Mask-aligner lithography using a continuous-wave diode laser frequency-quadrupled to 193 nm |
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| DOI |
10.1364/oe.26.000730
doi
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| 其它 |
期刊:Opt Express 作者:Kirner R, Vetter A, Opalevs D, Gilfert C, Scholz M, Leisching P, Scharf T, Noell W, Rockstuhl C, Voelkel R 出版日期:2018-01-01 |
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(2025-6-4)