| 标题 |
Exploring the limits of contact hole patterning with high-NA EUV lithography |
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| DOI |
10.1117/12.3090509
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期刊:Advanced Lithography 作者:Darío Goldfarb; Zheng Chen; Y. Cabrera; Karen Petrillo; Joe Lee; et al 出版日期:2026-04-09 |
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(2025-6-4)