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Correlation with the Microstructure and Synergistic Physiochemical Etching Resistance of Nanocomposites under Fluorine-Containing Plasma Conditions |
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期刊:ACS Appl Mater Interfaces 作者:Ma HJ, Hong S, Oh HM, Kumar K, Kim MJ, Kim HN, Ko JW, Lee JW, Lee HC, Park YJ 出版日期:2022-09-13 |
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