Novel Star Polymers as Chemically Amplified Positive-Tone Photoresists for KrF Lithography Applications

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标题	Novel Star Polymers as Chemically Amplified Positive-Tone Photoresists for KrF Lithography Applications
网址	https://pubs.acs.org/doi/pdf/10.1021/acs.iecr.7b05335
DOI	10.1021/acs.iecr.7b05335 doi
其它	期刊：Industrial & Engineering Chemistry Research 作者：Z. Xiangfei; Ji Changwei; Jingcheng Liu; Ren Liu; Mu Qidao; et al 出版日期：2018-04-27
求助人	111 在 2026-08-16 17:55:40 发布自河北，悬赏 10 积分
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