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Understanding the contributions of F–, HF, and HF2– to the etching of SiO2 and unveiling the reaction kinetics to represent etching behavior of SiO2 up to pH 5
了解F-、HF和HF2-对SiO2蚀刻的贡献，并揭示反应动力学以代表pH 5以下SiO2的蚀刻行为
相关领域
蚀刻（微加工） 氢氟酸 反应离子刻蚀 氟化氢 干法蚀刻 化学 动力学 材料科学 硅 无机化学 分析化学（期刊） 化学工程 纳米技术 有机化学 图层（电子） 物理 量子力学 工程类
网址
https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2024.159829
DOI
10.1016/j.apsusc.2024.159829 doi
其它 期刊：Applied Surface Science
作者：Bumsik Kim; Wonje Lee; Sangwoo Lim
出版日期：2024-03-03
求助人
-- 在 2024-10-14 11:42:11 发布自江苏，悬赏 10 积分
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