Low-temperature fabrication of silicon nitride thin films from a SiH4+N2 gas mixture by controlling SiNx nanoparticle growth in multi-hollow remote plasma chemical vapor deposition

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标题	Low-temperature fabrication of silicon nitride thin films from a SiH4+N2 gas mixture by controlling SiNx nanoparticle growth in multi-hollow remote plasma chemical vapor deposition 相关领域材料科学化学气相沉积氮化硅纳米颗粒远程等离子体化学工程薄膜硅基质（水族馆）等离子体增强化学气相沉积无定形固体分析化学（期刊）纳米技术光电子学结晶学有机化学地质学工程类海洋学化学
网址	https://doi.org/10.1016/j.mssp.2023.107613
DOI	10.1016/j.mssp.2023.107613 doi
其它	期刊：Materials Science in Semiconductor Processing 作者：Kunihiro Kamataki; Yusuke Sasaki; Iori Nagao; Daisuke Yamashita; Takamasa Okumura; et al 出版日期：2023-05-31
求助人	无私代容在 2026-01-12 11:06:17 发布自云南，悬赏 10 积分
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